2021年12月，靈感來自於一篇深圳中能高重複頻率X射線自由電子實驗站以及與中山大學(xué)合作的實驗站配套建設(shè)的測試項目，仔細閱讀《激光等離子體13.5nm極紫外光刻光源進展》以及參考ASML，TRUMP,ZEISS相關(guān)信息，萌發(fā)了搭建一個小型，低成本的桌面型eUV光源，市場能夠看到的光源如下：
大型自由電子X激光源(FEL模式)
ASML系統(tǒng)EUV光源(LPP模式)
荷蘭ISTEQ公司臺式EUV光源（LPP模式）
經(jīng)過數(shù)個月準(zhǔn)備，先期在廣州實驗室自制測試儀器，驗證實驗信號，完善實驗中的激光防護和安全條件，最終在深圳實驗室實現(xiàn)13.5nm的X激光在60w和200w泵浦條件下均實現(xiàn)信號輸出，令科藝公司在南中國大灣區(qū)首次獲得eUV激光源的輸出。展現(xiàn)了大灣區(qū)科技應(yīng)用的典型特點：低成本，高效率，快速轉(zhuǎn)化的綜合科技轉(zhuǎn)化能力。
（早幾年哈工大本部採用DPP模式獲得X激光輸出，上海光機所採用LPP模式獲得X激光輸出）
科藝桌面型eUV光源(LPP模式)
由於所有實驗是非真空環(huán)境條件下進行，激光損耗和散射比較大，理論估計本次實驗數(shù)據(jù)如下：
1.輸出波長13.5nm
2.輻射總能量：7mW@60W CO2 泵浦（Ti60）
12mW@200W CO2 泵浦 （F201）
3.測試裝備：26所特製5*5*5閃爍體+Thorlab光探測器2套（慢速高靈敏+高速低靈敏）
通用輻射計1套
@200W泵浦時信號
@60W泵浦時信號
輻射計信號
基於初步實驗過程，充分有效地鍛鍊了我們團隊解決新問題的應(yīng)變能力，也印證了科藝公司多年在激光應(yīng)用領(lǐng)域豐厚的技術(shù)沉澱和靈活高效的操作手段。
未來，科藝公司也將繼續(xù)與中山大學(xué)及其相關(guān)夥伴共同推進此項技術(shù)在超分辨成像儀器方面做一些探索與貢獻。
伍慶華
2022-7-22於廣州
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